在规划实验室净化工程干净室时，需求留意的是实验室净化工程干净室位置选择方面，要服从干净等级的设计请求，应选择大气含尘浓度较低，自然环境较好的区域和地段，要远离落叶和空气异味的场所，（如河边、食堂四周、动力区域等），还要尽量避开振动或噪声干扰的区域。充沛理解和计算精密 设备、仪器、仪表等环境振动值对设备的影响，停止剖析权衡。实验室净化工程干净室的污染源，普通主要是大气中含尘、含菌、尘粒和微生物以及实验人员的发尘、实验设备和实验操作过程中的产尘等。因而建筑围护构造质量和建筑施工办法对坚持和进步实验室净化工程干净室的规范具有重要意义。 实验室净化工程干净室的外面围护构造，如门窗、墙板、吊顶板、净化器过滤器、电器灯具等方面要充沛思索其保温、隔热、防火、防潮、密闭性能好的请求，做到不产尘、无裂痕、可擦洗、耐湿润，板缝平齐密封，压缝条平直缝隙小。空中则力图做到耐磨、耐冲击、耐火、耐腐蚀性好，不易产生静电，外表不易附着尘粒。
干净室中的温湿度控制 干净空间的温湿度主要是依据工艺请求来肯定，但在满足工艺请求的条件下，应思索到人的温馨度感。随着空气干净度请求的进步，呈现了工艺对温湿度的请求也越来越严的趋向。详细工艺对温度的请求以后还要罗列，但作为总的准绳看，由于加工精度越来越精密，所以对温度动摇范围的请求越来越小。例如在大范围集成电路消费的光刻曝光工艺中，作为掩膜板资料的玻璃与硅片的热收缩系数的差请求越来越小。直径100 um的硅片，温度上升1度，就惹起了0.24um线性收缩，所以必需有±0.1度的恒温，同时请求湿度值普通较低，由于人出汗以后，对产品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，这种车间温度不宜超越25度，湿渡过高产生的问题更多。相对湿度超越55%时，冷却水管壁上会结露，假如发作在精细安装或电路中，就会惹起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。此外，湿度太高时将经过空气中的水分子把硅片外表粘着的灰尘化学吸附在外表难以肃清。相对湿度越高,粘附的越难去掉，但当相对湿度低于30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于外表，同时大量半导体器件容易发作击穿。关于硅片消费最佳湿度范围为35—45%。
实验室净化分类 乱流式 空气由空调箱经风管与干净室内之空气过滤器(HEPA) 进入干净室，并由干净室两侧隔间墙板或高架地板回风。气流非直线型运动而呈不规则之乱流或涡流状态。此型式适用于干净室等级1,000-100,000级。 优点：结构简单、系统建形成本低，干净室的扩大比拟容易，在某些特殊用处场所，可并用无尘工作台，进步干净室等级。 缺陷：乱流形成的微尘粒子于室内空间飘浮不易排出，易污染制程产品。另外若系统中止运转再激活，欲达需求之干净度，常常须耗时相当长一段时间