今后，废水处理技能水平将不断进步，在出水水质、出资成本、运转办理、适用性等方面将有更多优势，在污水再生回用方面具有更多的运用空间。 半导体的出产需求经过8个首要工序。超纯水首要用于半导体制作中某些工序前后的清洗。例如，在蚀刻工艺之后，切开晶圆并用超纯水清洗剩余碎片。或许，在离子注入过程之后，清洁剩余离子。此外，超纯水还可用于晶圆抛光或晶圆切开。
半导体业由于技能发展迅速、市场变化大，其出产能力具有波动性。所以，要求与之配套的半导体纯水体系要有一定的可调节性、留有合理的余量，对超纯水设备供水的灵活性，安全性，及时性,提出了更高的要求。莱特莱德半导体纯水体系投入运转后，可以出产出合格的电阻率为18MQ *CM的超纯水，为半导体用水供给用水保障。
超纯水设备成果英勇的“芯” 芯片制作的每一道工序都离不开超纯水，只要水质纯洁了，才能保证每一步的正常运转。超纯水设备为芯片制作保驾护航。传统超纯水制备工艺一般运用离子交换树脂，但离子交换树脂的运用一般需求定期的树脂再生，这既耗费材料又耗费人力。超纯水设备选用超纯水设备选用反渗透工艺，或选用反渗透后离子交换混床、电去离子EDI工艺或抛光混床出产超纯水，以保证出水水质符合职业标准，满足芯片职业用水需求，成果英勇的“芯”。
