超纯水是为了研制超纯资料(半导体原件资料、纳米精密陶瓷资料等)运用蒸馏、去离子化、反渗透技能或其它适当的超临界精密技能出产出来的水，不宜饮用。 这样的水是一般工艺很难到达的程度，应该运用超纯水设备进行制备。专业的超纯水设备由预处理(多介质过滤+超滤设备)体系+反渗透体系+EDI电除盐体系+抛光混床体系组成，保证出水水质满足18.2MΩ·cm电子级水产水指标。
超纯水处理是一般工艺很难到达的程度，莱特莱德选用预处理、反渗透技能、靶向离子交换体系以及后级处理四大步骤，独有的靶向离子交换体系针对超纯水中难处理的硼及其他离子定向去除，保证出水硼离子可以稳定≤5ppt。
半导体业由于技能发展迅速、市场变化大，其出产能力具有波动性。所以，要求与之配套的半导体纯水体系要有一定的可调节性、留有合理的余量，对超纯水设备供水的灵活性，安全性，及时性,提出了更高的要求。莱特莱德半导体纯水体系投入运转后，可以出产出合格的电阻率为18MQ *CM的超纯水，为半导体用水供给用水保障。
