污水处理是环保水务板块中的重要部分，是指经过专业处理手段去除或下降不同类型污水中的固体污染物及有机污染物，令被净化的水质可以到达再次运用或排放要求的过程。污水按来历可分为出产污水、日子污水及被污染的雨水。 出产污水可分为工业污水、农业污水及医疗污水，其中以工业污水为主。现在出产污水中的工业污水和日子污水处理为污水处理职业重点处理目标。 虽然近年来工业废水排放量有所下降，但总量依旧很高，废水排放量坐落前4位的职业依次为造纸和纸制品业、化学原料及化学制品制作业、纺织业、煤炭挖掘和洗选业，4个职业的废水排放量为88亿吨，占工业企业废水排放总量的47.1%。
今后，废水处理技能水平将不断进步，在出水水质、出资成本、运转办理、适用性等方面将有更多优势，在污水再生回用方面具有更多的运用空间。 半导体的出产需求经过8个首要工序。超纯水首要用于半导体制作中某些工序前后的清洗。例如，在蚀刻工艺之后，切开晶圆并用超纯水清洗剩余碎片。或许，在离子注入过程之后，清洁剩余离子。此外，超纯水还可用于晶圆抛光或晶圆切开。
跟着半导体工业的不断开展，对清洁水的电导率、离子含量、TOC、do和颗粒物的要求越来越严厉。由于超纯水在许多指标上对半导体的要求很高，因而半导体职业的超纯水与其他职业的用水要求不同。半导体职业对超纯水有极其严厉的水质要求。现在，我国常用的超纯水规范有国家规范《电子级水》(GB/T 11446.1-2013)和美标。 在半导体出产过程中，硼是一种p型杂质。过量会使n型硅反转，然后影响电子和空穴的浓度。因而，在超纯水工业中应充分考虑硼的去除。硼离美标中e1.3中要求小于0.05。假如硼离子含量可以到达较低的指标，则必然会进步半导体的性能。
