跟着半导体工业的不断开展，对清洁水的电导率、离子含量、TOC、do和颗粒物的要求越来越严厉。由于超纯水在许多指标上对半导体的要求很高，因而半导体职业的超纯水与其他职业的用水要求不同。半导体职业对超纯水有极其严厉的水质要求。现在，我国常用的超纯水规范有国家规范《电子级水》(GB/T 11446.1-2013)和美标。 在半导体出产过程中，硼是一种p型杂质。过量会使n型硅反转，然后影响电子和空穴的浓度。因而，在超纯水工业中应充分考虑硼的去除。硼离美标中e1.3中要求小于0.05。假如硼离子含量可以到达较低的指标，则必然会进步半导体的性能。
超纯水既将水中的导电介质简直彻底去除，又将水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度的水。这种水中除了水分子外，简直没有什么杂质，更没有细菌、病毒、含氯二噁英等有机物，当然也没有人体所需的矿物质微量元素，也就是简直去除氧和氢以外所有原子的水。电阻率大于18M Ω*cm，或接近18.3M Ω*cm极限值(25℃)。
超纯水设备成果英勇的“芯” 芯片制作的每一道工序都离不开超纯水，只要水质纯洁了，才能保证每一步的正常运转。超纯水设备为芯片制作保驾护航。传统超纯水制备工艺一般运用离子交换树脂，但离子交换树脂的运用一般需求定期的树脂再生，这既耗费材料又耗费人力。超纯水设备选用超纯水设备选用反渗透工艺，或选用反渗透后离子交换混床、电去离子EDI工艺或抛光混床出产超纯水，以保证出水水质符合职业标准，满足芯片职业用水需求，成果英勇的“芯”。
