超纯水是为了研制超纯资料(半导体原件资料、纳米精密陶瓷资料等)运用蒸馏、去离子化、反渗透技能或其它适当的超临界精密技能出产出来的水，不宜饮用。 这样的水是一般工艺很难到达的程度，应该运用超纯水设备进行制备。专业的超纯水设备由预处理(多介质过滤+超滤设备)体系+反渗透体系+EDI电除盐体系+抛光混床体系组成，保证出水水质满足18.2MΩ·cm电子级水产水指标。
超纯水既将水中的导电介质简直彻底去除，又将水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度的水。这种水中除了水分子外，简直没有什么杂质，更没有细菌、病毒、含氯二噁英等有机物，当然也没有人体所需的矿物质微量元素，也就是简直去除氧和氢以外所有原子的水。电阻率大于18M Ω*cm，或接近18.3M Ω*cm极限值(25℃)。
半导体业由于技能发展迅速、市场变化大，其出产能力具有波动性。所以，要求与之配套的半导体纯水体系要有一定的可调节性、留有合理的余量，对超纯水设备供水的灵活性，安全性，及时性,提出了更高的要求。莱特莱德半导体纯水体系投入运转后，可以出产出合格的电阻率为18MQ *CM的超纯水，为半导体用水供给用水保障。
