跟着半导体工业的不断开展，对清洁水的电导率、离子含量、TOC、do和颗粒物的要求越来越严厉。由于超纯水在许多指标上对半导体的要求很高，因而半导体职业的超纯水与其他职业的用水要求不同。半导体职业对超纯水有极其严厉的水质要求。现在，我国常用的超纯水规范有国家规范《电子级水》(GB/T 11446.1-2013)和美标。 在半导体出产过程中，硼是一种p型杂质。过量会使n型硅反转，然后影响电子和空穴的浓度。因而，在超纯水工业中应充分考虑硼的去除。硼离美标中e1.3中要求小于0.05。假如硼离子含量可以到达较低的指标，则必然会进步半导体的性能。
Huncotte体系选用核级树脂，可经过共同的靶向离子交换树脂有用控制体系出水的硼离子含量。选用IPC-MS检测硼离子含量，并对硼离子流出物进行分析≤ 0.005μG/L远低于美标E1.3中要求的硼离子含量。 今天，莱特莱德集装箱海水淡化设备已出厂检验。莱特莱德集装箱海水淡化设备处理了空间限制，安装便利、体积小、操作简略。 现在，在水资源紧缺的情况下，加强海水淡化的国产化技能研制，在水资源再利用方面，推行海水淡化设备显得尤为重要，并且现代海水淡化设备也逐渐步入了现代这个快速开展的时代，其有用性和可靠性也越来越被人们所认可。
超纯水设备成果英勇的“芯” 芯片制作的每一道工序都离不开超纯水，只要水质纯洁了，才能保证每一步的正常运转。超纯水设备为芯片制作保驾护航。传统超纯水制备工艺一般运用离子交换树脂，但离子交换树脂的运用一般需求定期的树脂再生，这既耗费材料又耗费人力。超纯水设备选用超纯水设备选用反渗透工艺，或选用反渗透后离子交换混床、电去离子EDI工艺或抛光混床出产超纯水，以保证出水水质符合职业标准，满足芯片职业用水需求，成果英勇的“芯”。
