工业废水由于品种繁复、排放量大、内含污染元素多，对污水处理厂的技能水平要求高，且不同的职业处理工艺千差万别，是一个技能型职业。 工业废水处理要害的一步就是深度处理，可选用膜别离技能，处理后的废水可到达回用规范，有利于废水的循环利用，还可以保护环境。莱特莱德废水回收技能选用Neterfo极限别离体系，搭载了PON耐污染技能、POM宽流道高架桥旁路技能，完成了高回收率和低能耗。化学清洗恢复性好，较传统抗污染膜元件寿命进步近一倍。Neterfo极限别离体系配备三大系列定制模块化规划完成需求高度匹配。体系内置AI芯片完成智能调节，时间保证高效运转状况。
今后，废水处理技能水平将不断进步，在出水水质、出资成本、运转办理、适用性等方面将有更多优势，在污水再生回用方面具有更多的运用空间。 半导体的出产需求经过8个首要工序。超纯水首要用于半导体制作中某些工序前后的清洗。例如，在蚀刻工艺之后，切开晶圆并用超纯水清洗剩余碎片。或许，在离子注入过程之后，清洁剩余离子。此外，超纯水还可用于晶圆抛光或晶圆切开。
跟着半导体工业的不断开展，对清洁水的电导率、离子含量、TOC、do和颗粒物的要求越来越严厉。由于超纯水在许多指标上对半导体的要求很高，因而半导体职业的超纯水与其他职业的用水要求不同。半导体职业对超纯水有极其严厉的水质要求。现在，我国常用的超纯水规范有国家规范《电子级水》(GB/T 11446.1-2013)和美标。 在半导体出产过程中，硼是一种p型杂质。过量会使n型硅反转，然后影响电子和空穴的浓度。因而，在超纯水工业中应充分考虑硼的去除。硼离美标中e1.3中要求小于0.05。假如硼离子含量可以到达较低的指标，则必然会进步半导体的性能。
