工业废水由于品种繁复、排放量大、内含污染元素多，对污水处理厂的技能水平要求高，且不同的职业处理工艺千差万别，是一个技能型职业。 工业废水处理要害的一步就是深度处理，可选用膜别离技能，处理后的废水可到达回用规范，有利于废水的循环利用，还可以保护环境。莱特莱德废水回收技能选用Neterfo极限别离体系，搭载了PON耐污染技能、POM宽流道高架桥旁路技能，完成了高回收率和低能耗。化学清洗恢复性好，较传统抗污染膜元件寿命进步近一倍。Neterfo极限别离体系配备三大系列定制模块化规划完成需求高度匹配。体系内置AI芯片完成智能调节，时间保证高效运转状况。
超纯水是一种用于半导体制作过程中的洗涤剂。那么，在半导体出产中运用超纯水会有什么影响呢?在用纳米超精密工艺处理半导体时，假如在各种工艺前后留下一个小颗粒，则会导致差错。因而，在各种工艺前后用超纯水清洗晶圆可以保证清洁度并进步半导体出产率(输出)。
跟着半导体工业的不断开展，对清洁水的电导率、离子含量、TOC、do和颗粒物的要求越来越严厉。由于超纯水在许多指标上对半导体的要求很高，因而半导体职业的超纯水与其他职业的用水要求不同。半导体职业对超纯水有极其严厉的水质要求。现在，我国常用的超纯水规范有国家规范《电子级水》(GB/T 11446.1-2013)和美标。 在半导体出产过程中，硼是一种p型杂质。过量会使n型硅反转，然后影响电子和空穴的浓度。因而，在超纯水工业中应充分考虑硼的去除。硼离美标中e1.3中要求小于0.05。假如硼离子含量可以到达较低的指标，则必然会进步半导体的性能。
